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纳米级光场调控!光学超构表面助力LED发光器件创新发展 | LED NEXT#07
2025-05-2255

#07 

光学超构表面


周磊、何琼课题组在超构表面角度色散研究中取得新进展

张家硕, 毕宴钢, 冯晶. 基于光学超构表面光场调控的发光器件研究进展(特邀)[J]. 光学学报(网络版), 2025, 2(9): 0902001.


01

技术背景及含义

LED NEXT #07

光学超构表面

随着LED和OLED等发光显示器件的广泛应用,人们对器件的发光方向、颜色可调、偏振控制有了更高的需求。利用偏振片、滤波片、透镜等传统光学元件可以有效改变器件的发光特性,但系统体积的显著增加不利于器件的集成,并且传统光学元件带来的能量损耗,严重影响了器件的效率。


光学超构表面是一种通过微纳结构人工构筑的二维光子材料,能够对光场的相位、振幅、偏振等物理参量进行精细化调控。


光学超构表面具备平面化、超薄、多功能、易集成等优势。将其集成至有源光子器件内,可依据实际需求对近场光源实施调控,定制器件的远场发光特性,进而实现对发光器件发光参量的精准调控与主动剪裁。


02

制备方法

LED NEXT #07

光学超构表面

当前,超构表面主流加工工艺涵盖电子束曝光(EBL)、聚焦离子束加工(FIB)、飞秒激光直写(FsLDW)、纳米压印(NIL)、反应离子刻蚀(RIE)、双光束干涉无掩模光刻和自组装光刻等,如下图。

光学超构表面的制备工艺:(a)电子束曝光工艺;(b)聚焦离子束加工;(c)飞秒激光直写技术;(d)纳米压印技术(e)反应离子刻蚀;(f)双光束干涉无掩模光刻技术;(g)自组装纳米球光刻


· 电子束曝光(EBL):作为最常用的技术之一,具备高精度、高设计自由度、适配多种材料体系等优势。在发光器件相关的光学超构表面制备中,常与反应离子刻蚀(RIE)结合:先通过 EBL 定制图案化掩模,再利用 RIE 对目标材料进行选择性刻蚀。


· 聚焦离子束加工(FIB):兼具双重功能,既可用作抗蚀剂曝光的光刻工具(类似电子束),也能通过聚焦离子束对样品进行直接图案化加工。


· 飞秒激光直写(FsLDW):基于非线性相互作用机制,可实现复杂三维结构加工,且加工效率较高。


· 纳米压印(NIL)、双光束干涉光刻、自组装光刻:适合大面积、批量化制备超构表面阵列,显著提升生产效率。


03

技术作用

LED NEXT #07

光学超构表面


作用一:光学超构表面调控发光波长

在 OLED 显示器件中,获取红、绿、蓝(RGB)三基色像素单元的传统方式,是在器件内构建法布里 - 珀罗(F-P)腔,通过调节 F-P 共振腔的腔长,实现不同颜色像素单元的发光。如图 2 所示,若在 OLED 电极中集成光学超构表面,可通过改变电极的反射相位来调控器件内部的共振条件,从而在无需改变 OLED 器件厚度的情况下,实现 RGB 三基色发光颜色的调控。


集成超构表面的高分辨全彩OLEDs。(a)集成超构表面的OLEDs(meta-OLEDs)器件结构示意图;(b)超高密度RGB像素化的meta-OLEDs


作用二:光学超构表面调控发光方向

以 LEDs 和 OLEDs 为代表的常见光源,其远场发射轮廓多呈现近乎各向同性的朗伯式分布。若利用光学超构表面对器件内的光学模式进行选择性提取,可增强特定方向的光发射;结合梯度非均匀排列的相位梯度超构表面,还能定制远场辐射图案,实现器件的定向光发射(如图 3 所示)。此外,超构表面还可实现复杂的空间光调制与多自由度光束整形。


梯度超构表面调控发光方向


作用三:光学超构表面调控偏振光发射

偏振光源在 3D 显示、信息存储、信息加密等领域具有重要价值,而增强现实 / 虚拟现实(AR/VR)技术的快速发展,进一步推动了基于偏振光源的新型显示器件研发。传统在器件外部集成偏振光学元件的方式会导致严重能量损耗,难以满足产业化需求。基于光学超构表面的电磁场调控能力,将其集成至发光器件内部,通过对器件内光学模态的选择性调控,无需依赖偏振发光材料,即可实现高性能偏振发光器件的构建。


光学超构表面用于偏振发光调控。(a)偏振可调的钙钛矿发光晶体管;(b)基于周期性波纹超构表面的线偏振OLEDs


*更多技术进展见全文

报告全文:

张家硕, 毕宴钢, 冯晶. 基于光学超构表面光场调控的发光器件研究进展(特邀)[J]. 光学学报(网络版), 2025, 2(9): 0902001.


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